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パルスビーム方式陽電子寿命測定装置(PALS装置)>>お問合せ
  <薄膜材料内の原子空孔〜ナノ空孔測定>
       
  分析事例    
 
LSI多層配線用 めっきCu薄膜の原子空孔分析
 
 

 
 
めっき直後のCu膜には1原子サイズの空孔が高密度に導入されている。
   
アニールを行うと、再結晶化と同時に原子空孔が動き、より大きな空孔クラスターが形成される。
   
空孔クラスターの形成挙動とSIV(Stress Induced Voiding)の故障率には強い相関がある。
   
(株)半導体先端テクノロジーズ(Selete)と産業技術総合研究所の共同研究
(1) F. Shoji, T. Ohdaira, I. Suzuki, M. Shimada, R. Suzuki, and S. Ogawa, Proc. Advanced Metallization Conf. 2004. Mat. Res. Soc. p.313 (2004)
(2) 大平 俊行,庄子 史人, 鈴木 良一, 島田 美代子, 小川 真一, 2005年春期応用物理学会
 
     
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UVアニールによるLow-k膜のサブナノ空孔構造変化
 
 
UV照射による弱い結合基(-CH3)の解離、 脱離
→ サブナノ空孔サイズ拡大 → 誘電率減少
 
 
未結合基の再結合(重合) → 膜強度向上
   
 
(株)半導体プロセス研究所と産業技術総合研究所の共同研究
 
 
多孔質膜の空孔連結性の評価
 
 
陽電子消滅γ線のエネルギースペクトル
 
   
陽電子消滅γ線のエネルギースペクトルから、空孔が連結した
開口空孔(オープンポア)か、あるいは孤立した閉鎖空孔(クロー
  ズドポア)かを判別できる。
   
この測定はオプション仕様となります。
   
旭化成株式会社と産業技術総合研究所の共同研究
 
 
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海水淡水化に用いる分離膜(RO膜)の分析
 
 
   
     
 
RO膜では表面に形成した分離層(厚さ数10nm)の自由体積空孔サイズが、不純物分子の阻止率に強く影響する。
 
     
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自由体積の温度依存性
 
 
   
     
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