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  真空機能部品
   
 
基板加熱機構

 

基板加熱機構
 
  主な仕様  
  基板サイズ  :2インチ
  加熱温度 :700℃(MAX)
  ヒーター :タンタル
  熱電対 :A-K
  連続運転   :任意に調整可能
 
 

耐酸素・基板加熱機構
 
  酸素中で使用できるSiCコートヒーター仕様
  主な仕様  
  基板サイズ  :50mm
  加熱温度 :1,100℃(MAX)
  ヒーター :SiCコーティング
  熱電対 :W-W
 
 

Zモーション&回転機構付基板加熱機構
 
  主な仕様  
  加熱温度 :500℃(試料裏面)
  移動距離 :200mm
  回転 :±180度
 
 

一体型・蒸発源付基板加熱機構
 
 
コンパクトなフランジに蒸発源、基板加熱機構、
膜厚計、手動シャッター装備
  10テスラの強磁場中で使用可能
  主な仕様  
  加熱温度 :600℃(MAX)
  熱電対 :Cu-Ko
 
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三源蒸発源(K-CELL)

 

三源蒸発源(K-CELL)
 
  K-CELLを最大4源セット可能
 
仕切り板と天板が付いて、異なる蒸発源どうしの影響なし
  主な仕様
  温度 :500℃(MAX)
  ヒーター :シース型
  熱電対  :A-K
  ルツボ :1cc
 
 
6kW‐EBガン

 

高性能EBガン
 
  主な仕様
  ルツボ :10cc
  高圧電圧 :8kV、0.8A
  フィラメント   :10V、30A(MAX)
  スイープコイル :0.5-10Hz
  電流 :±2A
  バイアス   :±0.1A
  集束  :片側0-2A
 
 
EBガン電源

 

EBガン電源
 
 
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ペンシル型SPM

 

ペンシル型SPM
 
 
SEMに取り付け、観察しながら簡単な
ジョイスティック操作で試料を探索できるSPM
  主な仕様
  試料ステージ :XYZ方向、粗動・微動
  試料サイズ :2x7.5x0.5t(mm)
  試料加熱   :500℃(MAX)
 
 
 
シャッター機構

 

シャッター機構
 
 
Z方向の手動式で、簡単に2箇所の位置決め
が可能
  主な仕様
  取り付けフランジ :ICF70
 
 
4ch自動リニアモーション機構

 

4ch自動リニアモーション機構
 
  Zモーションを4台独立して制御可能
  主な仕様
  移動距離 :0-50mm
  分解能 :0.625mm/回転
 
 
移動式・排気ユニット

 

移動式・排気ユニット
 
 
市販の台車に排気系を載せたことで、
移動が容易しかもコンパクトで安価
  主な仕様
  到達真空 :1.0x10-8Torr
  排気系は任意に選択可能
 
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