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  真空応用装置
   
 
真空蒸着装置

 

真空蒸着装置
 
  2系統の蒸発源を持つ小型真空蒸着装置
  主な仕様  
  基板サイズ  :2インチ
  基板加熱温度 :700℃(MAX)
  蒸発源 :抵抗加熱2系統
  真空ポンプ  :TMP&RP
  到達真空   :3.0x10-8Torr
 
 

小型・真空蒸着装置
 
  排気系に安価なDPを使用した省スペースタイプ
  主な仕様  
  基板サイズ  :2インチ
  基板加熱温度 :700℃(MAX)
  ガス導入 :1系統
  蒸発源 :抵抗加熱2系統
  真空ポンプ  :DP&RP
 
 

真空蒸着装置 チャンバー移動式LL
 
  主な仕様  
  蒸発源 :抵抗加熱2系統
 
 
 
真空加熱装置

 

真空加熱装置
 
  主な仕様  
  加熱温度 :中心で400℃、左右で300℃
  ガス導入 :1系統
  到達真空   :1.0x10-7 Torr
 
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