真空蒸着装置
■ 真空蒸着装置
●２系統の蒸発源を持つ小型真空蒸着装置
● 主な仕様
・基板サイズ ：２インチ
・基板加熱温度 ：700℃（MAX）
・蒸発源 ：抵抗加熱２系統
・真空ポンプ ：ＴＭＰ＆ＲＰ
・到達真空 ：3.0×10-8Torr
■ 小型・真空蒸着装置
●排気系に安価なＤＰを使用した省スペースタイプ
● 主な仕様
・基板サイズ ：２インチ
・基板加熱温度 ：700℃（MAX）
・ガス導入 ：１系統
・蒸発源 ：抵抗加熱２系統
・真空ポンプ ：ＤＰ＆ＲＰ
■ 真空蒸着装置 チャンバー移動式ＬＬ
● 主な仕様
・蒸発源 ：抵抗加熱２系統
真空加熱装置
■ 真空加熱装置
● 主な仕様
・加熱温度 ：中心で400℃、
左右で300℃
・ガス導入 ：１系統
・到達真空 ：1.0×10-7 Torr